Веретенников В.А.

 Использование: при производстве приборов и устройств полупроводниковой электроники, а также криоэлектроники. Диэлектрический слой осаждают в виде аморфного материала при температуре подложки не свыше 300C, а затем осуществляют нагрев слоя до температуры, обеспечивающей фазовый переход диэлектрика в кристаллическое состояние, импульсным воздействием потоками плазмы или потоками квантов в с...

 Изобретение относится к трубопрокатному производству и может быть использовано при холодной прокатке труб на валковых станах. Задача, решаемая изобретением, - повышение точности, качества прокатываемых труб. Калибровка инструмента для холодной прокатки труб характеризуется тем, что кривые профиля развертки внешнего и профиля внутреннего инструментов являются геометрическим местом узловых...