Ерыгин Д.В.

 Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины пленок, в частности в устройствах для измерения и контроля толщины пленок фоторезиста, наносимых на вращающуюся полупроводниковую подложку в процессе центрифугирования в операциях фотолитографии. Сущность изобретения заключается в том, что пучок излучения с длиной волны падает на...

 Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и предназначено для неразрушающего контроля толщины и измерения разнотолщинности пленок, в частности в устройствах для нанесения фоторезиста в операциях фотолитографии. Сущность изобретения заключается в том, что пучок излучения с длиной нач волны падает на контролируемую подложку под углом , до и в процессе нанесения пленки регистр...