ЛИ Сеюнг-Чжу (KP)

Изобретение относится к фильтрующим лицевым респираторным маскам. Маска включает основу 12 маски и систему 14 крепежных ремней. Основа 12 маски имеет структуру, обеспечивающую ее плотную посадку на лицо без необходимости использования дополнительных компонентов, таких как лицевое уплотнение, носовой элемент из пенистого материала или носовой зажим. Основа 12 маски включает фильтрующий элемент 18...