ВЕЙКО ВАДИМ ПАВЛОВИЧ

  Союз Советских Социалистических Республик! "! 6354!4 OllNCAl-1gE I43OBPETE H g g К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к азт. Свил-зу— (22) Заявлено 25.07.77 (2! j 2524312 24-25 (51) 11.КЛ.- G 01 N 25, 12 с присоелинен:!ем зая= II X=— Государственный ко!ннтет (23) Приоритет— (43) Опмбликозано 30.11.78. Вкл.-ете:- !ь М 44 (45) Дата опубликова шя опис н !я = 1.11....

  СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОЛИНЗОВОГО УПОРЯДОЧЕННОГО РАСТРА в оптическом материале путем формирования в объеме заготовки областей с отличным от исходного показателем преломпекия, отличающийся тем, что, с цепью сокращения времени изготовления с одновременным уменьшением размера микролинз и расстояния между ними, указанные области последовательно формируют путем локального термическог...

  СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ РЕСПУБЛИК А1 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ Н АВТ0РСНОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ /1 /!! ! z !у1 ! Ф ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР ПО ElEJlAM ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21 ) 3660935/24-10 (22) 09. 11. 83 (46) 15.08.86. Бюл. Р 30 (71) Ленинградский ордена Трудового Красного Знамени институт точной механики и оптики (72) И.Т. Разумовский, И.А. Разумовская, В.П. Вей...

  Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано , для определения одинаковых и однородных по показателю преломления областей пластин из пористого высококремнеземного стекла, используемых в качестве заготовок для формирования микрооптических элементов, применяемых в волоконно-оптических системах связи. Целью изобретения является расширение области определен...

  Изобретение относится к измерительной технике и позво.чяет расширить функциональные возможности способа за счет обеспечения возможности определения фокусного расстояния микрооптической отрицательной системы с одновременным повышение.м точности. Положительная линза 2 преобразует основную моду с Гауссовым распределением интенсивности от лазера 1 в Гауссов пучок с известными располо...

  Изобретение относится к исследованию прочностных свойств материалов. Цель изобретения - повышение точности, упрощение способа и расширение области его применения. Для этого образец материала подвергают воздействию импульсного лазерного излучения, постепенно меняя плотность потока лазерного излучения, и регистрируют возникающую при этом в образце ударную волну. За энергетический по...

  Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано для непрерывного контроля за распределением 2 интенсивности ИК-излучения в процессе лазерной обработки, в частности, в процессе формирования микрооптических элементов (МОЭ) в пористом оптическом материале локальным лазерным воздействием. Цель изобретения - повышение точности контроля. Пучки лазеров ИК- и видимого...

  Изобретение относится к технологии процессов стекловарения и может быть использовано для получения высокооднородного оптического стекла. Целью изобретения является повышение оптического качества стекла. В течение всего процесса осуществляют облучение шихты монохроматическим излучением источника видимого или ближнего ИК-диапазона. Плотность мощности не ниже 105. СОЮЗ СОВЕТСКИХ...

  Изобретение относится к оптическому спектральному приборостроению. Цель изобретения - снижение погрешности измерений в k раз в спектральном диапазоне ДА. Излучение, пройдя спектральный фильтр с областью пропускания ДА , попадает в растровый спектрометр с растрами, состоящими из пар верхней и нижней строк с рабочими элементами, выполненными в виде прозрачных и непрозрачных прямоИз...

  Изобретение относится к технологии механической обработки заготовок из пористого стекла (ПС) и может быть использовано для изготовления оптических деталей необходимой конфигурации, в том числе и микрооптических элементов (МОЭ). сформированных на подложке из ПС путем локального термического воздействия сформированным пучком лазера на поверхность ПС. Цель изобретения - повышение вы...

  Использование: лазерная обработка материалов Сущность изобретения, пучок излучения лазера фокусируется на поверхности донорной пленки. Импульс лазерного излучения нагревает, расплавляет и частично или полностью испаряет донорную пленку в облученной области. Пары и расплав осаждаются на поверхности акцепторной подложки, после чего уменьшают плотность потока лазерного излучения до...