Тряпицын С.А.

 (19)SU(11)1199089(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 10.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям, используемым в технологии печатного монтажа для получения защитных покры...

 (19)SU(11)1259846(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ Изобретение относится к способам изготовления фотополимеризующихся композиций для защитных рельефов, которые находят примене...

 (19)SU(11)1289237(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ СУХОГО ПЛЕНОЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям, использующимся для изготовления сухих пленочных фоторезистов в технологии...

  Изобретение касаетса фотоматериалов, в частности фотополимеризующейся композиции (ФК) для сухих пленочных фоторезистов, используемых в радио- и электротехнической промышленности для производства печатных плат. Повышение разрешающей способности ФК, ее устойчивости в кислой среде и улучшение реологических свойств при нанесении валковым ламинированием на поверхность, имеющую рельеф микронер...

 Изобретение касается фоторезистов, в частности сухого пленочного фоторезиста, который используют для получения защитных рельефных изображений в производстве печатных плат в радио- и электротехнике. Для повышения устойчивости фоторезиста в среде борфтористоводородных гальванических электролитов и увеличения адгезии к медной подложке в составе используют дополнительные добавки дикарбоновых...

 Изобретение касается производства печатных плат, в частности изготовления для них защитных рельефов, и может быть использовано в радио- и электротехнической промышленности. Цель изобретения - повышение разрешающей способности получаемого защитного рельефа, достижение стабильной устойчивости к отслоению его от медной подложки и повышение выхода годных изделий при изготовлении печатных плат...

 Изобретение касается фоторезистов, в частности сухого пленочного фоторезиста (СФР) водно-щелочного проявления для получения защитных рельефов при изготовлении печатных плат, в радио- и электротехнической промышленности. Для повышения разрешающей способности и устойчивости к перепроявлению используют другой карбоксилсодержащий сополимер стирола (КС) в фотополимеризующемся слое (ФС) другого...

 Изобретение касается производства фотоматериалов, в частности получения фотополимеризующейся композиции (ФПК) для защитных рельефов, что может быть использовано в технологии печатного монтажа в полиграфии. Цель - сокращение длительности процесса и повышение светочувствительности композиции. Ее получение ведут двуступенчатой конденсацией сначала 100 мас.ч. эпоксидной смолы (ЭС) с 18,7 - 50...

 Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для изготовления печатных плат и форм. Изобретение позволяет повысить светочувствительность композиции и ее стабильность за счет радикальной полимеризации 95-105 мас. ч. стирола, 40-55 мас.ч. метакриловой кислоты, 5-10 мас. ч. акрилонитрила в присутствии 0,5-2 мас.ч. перекиси бензоила и 3,0-8,5 мас.ч. бензофенона, в среде 100-300 ма...

 Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности. Описывается фотополимеризующаяся композиция для сухого пленочного фоторезиста, включающая сополимер стирола с моно-н-бутилмалеинатом, дифункциональный акрилат, (-хл...