Плохова Т.С.

 (19)SU(11)795326(13)A1(51)  МПК 5    H01L21/31(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.12.2012 - прекратил действиеПошлина: (54) ЗАЩИТНАЯ МАСКА Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано в технологии изготовления интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, в частности в способах химического ми...

 Защитная маска для группового химического разделения монокристаллических пластин, ориентированных в плоскости (100) на кристаллы, стороны которых ориентированы по направлениям <110>, с помощью локального анизотропного травления, представляющая собой совокупность прямоугольников с фигурами упреждения на вершинах прямых углов, отличающаяся тем, что, с целью увеличения выхода годных кр...