Точицкий Э.И.

 (19)SU(11)826761(13)A3(51)  МПК 5    C23C14/44(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 27.12.2012 - прекратил действиеПошлина: (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ Изобретение относится к вакуумной технике и может найти применение в нанесении высококачественных покрытий простого и сложного составов. Известно устройство для нанесения...

 1. Способ получения покрытий, включающий испарение материала, формирование направленного к подложке потока осаждаемого материала и осаждение его на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения адгезии, на осажденное покрытие воздействуют импульсным магнитным полем непосредственно или через промежуточную среду, обладающую высокой электропроводностью. 2. Способ по п.1, отличающийся те...

 Способ получения покрытия в вакууме, заключающийся в возбуждении дугового разряда в парах материала расходуемого электрода и конденсации пароплазменного потока этого материала на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытий за счет снижения капельной фазы пароплазменного потока, на расходуемый электрод воздействуют ультразвуковыми колебаниями. Изобретение относится...

 (19)SU(11)950167(13)A1(51)  МПК 6    H05H1/24(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.12.2012 - прекратил действиеПошлина: (54) ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО Изобретение относится к плазменной технике, представляет собой средство для получения в вакууме потока электроэрозионной плазмы и может быть использовано для раз...

 Вакуумный запоминающий активный элемент, содержащий размещенные в вакуумированном корпусе источник электронов, сегнетоэлектрическую планку и нанесенные на ее поверхности металлические электроды, отличающиеся тем, что, с целью повышения быстродействия запоминающего элемента, в сегнетоэлектрической пленке электроде, обращенном к источнику электронов, выполнены соосные отверстия, а источник...

 (19)SU(11)1061686(13)A3(51)  МПК 5    H05H1/00(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 27.12.2012 - прекратил действиеПошлина: учтена за 5 год с 02.07.1995 по 01.07.1996(54) СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКА ПЛАЗМЫ Изобретение относится к плазменной технологии и может быть использовано для обработки поверхности изделий, с целью придания ей специальных сво...

 (19)SU(11)1069451(13)A3(51)  МПК 5    C23C14/46(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 27.12.2012 - прекратил действиеПошлина: учтена за 5 год с 02.07.1995 по 01.07.1996(54) СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ Изобретение относится к области плазменной техники и вакуумной технологии нанесения покрытий и может быть использовано в мик...

 Способ оригинала топологического рисунка большой интегральной схемы, включающий нанесение на прозрачную подложку маскирующей пленки и получение рельефа в маскирующей пленке, содержащего элементы топологического рисунка и реперные знаки, методом фотолитографии с использованием генератора изображения, отличающийся тем, что, с целью повышения точности взаимного расположения элементов тополог...

 Эрозионный плазменный ускоритель, содержащий соосно расположенные катод, анод, дополнительный полый кольцевой электрод с отверстиями для подачи плазмообразующего газа, основной источник питания, соединенный с катодом и анодом, и генератор импульсов, соединенный с катодом и дополнительным полым электродом, отличающийся тем, что, с с целью повышения надежности возбуждения разряда, дополните...

 (19)SU(11)1116967(13)A4(51)  МПК 6    H05H1/24, H05B7/18(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: учтена за 5 год с 02.07.1995 по 01.07.1996(54) ВАКУУМНОЕ ЭЛЕКТРОРАЗРЯДНОЕ УСТРОЙСТВО Изобретение относится к плазменной технике, представляет собой средство для получения в вакууме потока высокочистой электроэр...

 Способ измерения размеров элементов литографических слоев, включающий формирование увеличенного изображения литографического слоя, измерение параметров увеличенного изображения и преобразование этих параметров в размер элементов, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерения, перед формированием увеличенного изображения в литографическом слое выполняют голографическую решетк...

 (19)SU(11)1168070(13)A3(51)  МПК 5    H05B7/22, H05H1/34(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: учтена за 5 год с 02.07.1995 по 01.07.1996(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ Изобретение относится к электротехнике, предназначено для возбуждения разряда в...

 (19)SU(11)1268082(13)A4(51)  МПК 5    H05H1/24, C23C4/00(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк патентуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: учтена за 5 год с 02.07.1995 по 01.07.1996(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ИМПУЛЬСНОМ ГЕНЕРАТОРЕ ЭЛЕКТРОЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в вакуумных си...

 Устройство для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы относится к области электротехники. Цель изобретения - повышение надежности устройства и увеличение срока службы. Устройство для возбуждения разряда в импульсном генераторе электроэрозионной плазмы, содержащее охватывающий цилиндрический катод генератора вблизи его рабочего торца, кольцевой изолятор, повер...

 Изобретение касается нанесения покрытий в вакууме. Цель изобретения - повышение качества покрытий и снижение непроизводительных потерь испаряемого материала. Система подачи материала 4 состоит из тигля 5, соединенного с испарителями через теплоизолированную керамическую прокладку 6. Испаритель представляет собой решетку со стенками в виде прогреваемых ножевидных элементов 1. Последние пре...

 Изобретение относится к электротехнике. Целью изобретения является повышение качества обработки путем улучшения прогрева обрабатываемых деталей. Устройство снабжено трансформатором 8, первичная обмотка которого через дозатор 2 энергии соединена с источником 1 питания, а вторичная обмотка соединена с входом выпрямителя 9, выход которого связан с выводами камеры 12 нагрева, при поочередном...

 Изобретение может быть использовано для получения активных и пассивных слоев методом термического испарения материала в вакууме. Цель изобретения - улучшение качества покрытия и увеличение коэффициента использования материала покрытия. Устройство содержит подложкодержатель 1, испаритель 3, установленный напротив него, формирователь 4 потока пара, выполненный в виде коаксиально расположенн...

 Изобретение относится к плазменной технике и представляет собой средство для генерирования в вакууме потоков ускоренной электроэрозионной плазмы и может быть использовано, например, в технике вакуумного нанесения тонких пленок и покрытий. Цель изобретения - увеличение надежности при одновременном снижении энергозатрат на возбуждение разряда. Система питания вакуумного электроразрядного ус...

  Изобретение относится к вакуумной технологии нанесения пленок и покрытий металлов и сплавов композиционных и тугоплавких соединений на их основе на полимерные материалы и может использоваться в химической и электронной отраслях промышленности. Цель изобретения - увеличение адгезии покрытий. Способ включает предварительную очистку поверхности от загрязнений, нанесение в едином цикле проме...

 Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано для осаждения пленок при изготовлении приборов микроэлектроники, оптических покрытий, элементов интегральной оптики. Целью изобретения является расширение технологических возможностей за счет снижения температуры нагрева осаждаемого материала при обеспечении высокой степени кластеризации молекулярного пара. Сущность сп...

 Способ получения пленок металлооксидных высокотемпературных сверхпроводников относится к технологии пленочной микроэлектроники и может быть использован в производстве больших и сверхбольших интегральных схем для получения элементов с применением сверхпроводящих эффектов, в частности СКВИДов. Цель изобретения - уменьшение качества пленок за счет уменьшения их шероховатости и повышение одно...