БОРРЕЛЛИ Николас Ф. (US)

 Изобретение относится к линзам из кварцевого стекла для установки шагового мультиплицирования, пригодным для использования в фотолитографии при длинах волн 193 и 248 нм. Технический результат изобретения - получение линзы, стойкой по отношению к вызванным воздействием лазера разрушениям, в частности к сжатию или уплотнению. Линза по данному изобретению дает при облучении ее дозой эксимерн...