Дымшиц Ю.И.

 Сущность изобретения: способ изготовления микропористых мембран включает облучение полимерной пленки потоками высокоэнергетических частиц, например квантов излучения, электронов или ионов, и последующее травление. Перед обучением пленку нагревают до температуры, находящейся в диапазоне между температурой стеклования и температурой текучести, деформируют и охлаждают до температуры, меньше...

 Способ изготовления микропористых мембран включает в себя локальное облучение пленок или пластин потоками высокоэнергетических частиц и последующее их травление. Перед облучением пленку или пластину обрабатывают вызывающим ее набухание химическим реагентом и наносят слой эластичного резиста. После облучения пленку или пластину подвергают усадке. Обработку травителем ведут в две ступени, н...

 Способ изготовления мембранных сит включает операции локального облучения пленки или пластины потоками высокоэнергетических частиц(квантов излучения, электронов или ионов)и последующего травления. Пленку или пластину перец облучением покрывают резистом в виде пространственно разделенных островков, а после облучения обрабатывают травителем, образующим отверстия в резисте и не воздействующи...

 Способ изготовления мембран для фильтрации включает операции локального облучения пленки или пластины пучками высокоэнергетических частиц / квантов излучения, электронов или ионов / и последующего травления. Перед облучением пленку или пластину растягивают, затем наносят слой эластичного резиста / в качестве которого можно использовать лэнгмюровскую пленку /. В облученном резисте вытравли...

 Способ изготовления фильтровальных мембран включает облучение набухшей под воздействием химического реагента пленки потоком высокоэнергетических частиц, ее последующую обработку травителем и усадку. Преимущественно усадку пленки осуществляют после травления путем выпаривания химического реагента. 3 з.п. ф-лы, 1 ил. Изобретение относится к области физико-химической очистки веществ, а более...

 Способ изготовления мембранных фильтров включает следующие стадии: деформирование исходной пленки или пластины, локальное облучение потоками высокоэнергетических частиц, снятие или уменьшение деформирующей нагрузки и заключительное травление. Облучение пленки или пластины преимущественно ведут через трафарет. 2 з.п.ф-лы, 1 ил. Изобретение относится к области физико-химической очистки веще...

 Использование: в области технологии микроэлектронных устройств. Сущность изобретения: способ включает известные операции облучения пленки резистивного материала потоками излучения или частиц и последующего травления. На подложку наносят пленку резистивного материала и перед облучением ее растягивают, а после облучения, перед травлением, растяжение уменьшают или снимают. Перед облучением н...

 Изобретение относится к оптике, к конструкции устройств, предназначенных для измерения пространственного распределения интенсивности в пучках непрерывного излучения большой мощности. Сущность изобретения: измеритель включает фотоприемник и установленную перед ним вращающуюся диафрагму. Она выполнена в виде набора полых трубок с калиброванными отверстиями в боковых стенках. Трубки укреплен...

 Использование: изобретение относится к оптике, к конструкции устройств, предназначенных для измерения пространственного распределения в пучках непрерывного излучения большей мощности. Сущность изобретения: устройство включает фотоприемник и установленную перед ним диафрагму в виде подвижной шторки с отверстиями. Шторка выполнена в виде пластины с возможностью возвратно-поступательного дви...

 Использование: в оптике, касается устройств, предназначенных для измеpения пространственного распределения интенсивности в пучках непрерывного излучения большой мощности. Сущность изобретения: устройство включает фотоприемник и установленную перед ним вращающуюся диафрагму в виде диска со сквозной щелью. Щель выполнена в виде узкой полоски, не концентрической с осью вращения. Между диском...

 Использование: в оптике, касается устройств, предназначенных для измерения пространственного распределения интенсивности в пучках непрерывного излучения большой мощности. Сущность изобретения: устройство включает фотоприемник и установленную перед ним вращающуюся диафрагму в виде диска с отверстиями, расположенными по спирали Архимеда. В отверстия вставлены втулки со сквозными каналами. П...

 Изобретение относится к способам физико-химической очистки веществ. Способ включает в себя создание в фильтровальной пластине прямолинейных идентичных цилиндрических областей с пониженной химической стойкостью и последующую обработку травителем, разрушающим эти области, но не воздействующим или слабо воздействующим на остальную часть пластины. Для создания химически нестойких областей цил...

 Изобретение относится к технологии микроэлектронных устройств. Сущность изобретения: полимерную резистивную пленку локально облучают потоками излучения или частиц с последующим травлением. Пленку в процессе ее изготовления нагревают до температуры, находящейся в области высокоэластической деформации полимера между температурой стеклования и температурой текучести, и растягивают. Растянуту...

 Изобретение относится к области физико-химической очистки веществ. Способ изготовления пористых мембранных фильтров включает локальное облучение пленок или пластин потоками высокоэнергетических частиц, последующую усадку пленок или пластин и травление. Усадку можно проводить после травления. Выполнять ее можно путем термомеханической или химической обработки, путем вакуумного высушивания...

 Способ изготовления пористых фильтров включает локальное облучение потоками высокоэнергетических частиц (квантов излучения, ионов или электронов) исходной пленки или пластины и последующую обработку травителем. При этом перед облучением на исходную пленку или пластину наносят слой эластичного резиста, после облучения проводят операцию усадки, травление ведут в две ступени, на первой из ко...

 Способ изготовления пористых мембран включает локальное облучение исходной пленки потоками высокоэнергетических частиц /квантов излучения, электронов или ионов/ и последующую обработку травителем. Перед облучением пленку покрывают резистом в виде пространственно разделенных островков и растягивают. После облучения растягивающие усилия снимают, обработку травителем ведут в две ступени, на...