PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Бобыр В.И.

Изобретатель Бобыр В.И. является автором следующих патентов:

Устройство для выращивания монокристаллов из расплава в ампуле

Устройство для выращивания монокристаллов из расплава в ампуле

 Устройство для выращивания монокристаллов из расплава в ампуле, включающее вертикально расположенные нижнюю и верхние камеры с нагревательными элементами, принудительно охлаждаемую кольцевую диафрагму, расположенную в верхней камере, и системы стабилизации температур нагревательных элементов, каждая из которых состоит из температурного датчика, задающего средства, регулятора и исполнитель...

989912

Устройство для выращивания кристаллов из расплава в ампуле

Устройство для выращивания кристаллов из расплава в ампуле

 Устройство для выращивания кристаллов из расплава в ампуле, содержащее вертикальную шахтную печь, состоящую из двух камер с нагревательными элементами, охлаждаемую кольцевую диафрагму, ампулу с кристаллизуемым веществом, механизм перемещения ампулы в вертикальном направлении и приводы перемещения ампулы в горизонтальной плоскости в двух взаимно перпендикулярных направлениях, отличающееся...

1061533

Способ получения сцинтилляционных щелочно-галоидных кристаллов

Способ получения сцинтилляционных щелочно-галоидных кристаллов

 Изобретение относится к способам получения сцинтилляционных щелочно-галоидных кристаллов и обеспечивает повышение производительности процесса при сохранении оптического качества кристаллов, а также одновременное получение сцинтилляционного элемента для низкофонового спектрометра, содержащего световод. Способ включает плавление исходной соли в контейнере, введение в расплав соли активатора...

1304442

Способ выращивания щелочно-галоидных кристаллов

Способ выращивания щелочно-галоидных кристаллов

 Изобретение относится к получению кристаллов и позволяет ускорить процесс. Выращивание ведут вертикальной направленной кристаллизацией путем пропускания цилиндрической ампулы с расплавом через охлаждаемую диафрагму со скоростью V. Сначала расплав перегревают на t1= 30-50C выше t плавления и в течение времени t1=(hk + hx)/V выращивают конусную часть кристалла, затем со скоростью U1= 0,3(t2...

1610942