Квитченко В.С.

 Способ изготовления микросхем, основанный на последовательном нанесении на подложку многослойной структуры: первого и второго резистивных слоев и проводящего слоя и получении конфигурации элементов микросхемы методом фотолитографии с последующей термообработкой при 200 - 300oС на воздухе, отличающийся тем, что, с целью расширения области использования способа и снижения его себестоимости,...