Елекоева Кристина Муратовна (RU)

Изобретение относится к сфере промышленного производства изделий электронной техники. Способ включает фотонный отжиг в течение 3-4 с. Затем осуществляют смачивание поверхности пленки в жидкофазной системе на основе олова. Техническим результатом изобретения является повышение качества поверхности пленки за счет ее сглаживания и снижения угла смачивания жидкофазными системами. 6 ил., 3 пр.

Изобретение может быть использовано при производстве изделий электронной техники, а именно для лужения поверхности алюминиевых пленок на полупроводниковых и диэлектрических подложках. Припой содержит компоненты в следующем соотношении, мас.%: стронций 0,1-2,0, олово - остальное Технический результат заключается в улучшении растекания припоя по поверхности алюминиевых пленок и повышении прочности...