СИЕДИН В.А.

  1. СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕГАТИВНОЙ МАСКИ, включающий нанесение полимеркой пленки на подложку, ее экспонирование путем облучения потоfcoM частиц, обработку полимерной пленки в среде Мономера и проявление изображения, отлячающ и и с я тем, что, с целью улуч .шения технологических характеристик процесса, обработку полимерной проводят в парах Мономерного винилсилана общей формулы (CN CN)...