Валеев И.Б.

 (19)SU(11)1199089(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 10.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям, используемым в технологии печатного монтажа для получения защитных покры...

 (19)SU(11)1222073(13)A1(51)  МПК 6    G03C1/72(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ РЕЛЬЕФОВ Изобретение относится к способам изготовления защитных рельефов с использованием сухого пленочного фоторезиста, находящим применение в технологии печатного монт...

 Изобретение касается сухих пленочных фоторезистов (ПФР), используемых в технологии печатного монтажа покрытий плат. Цель - повышение стойкости ПФР в горячем теплоносителе типа Лапрол-2502-ОЖ и увеличение адгезии к подложке. ПФР состоит из полиэтилентерефталатной подложки и фотополимеризующегося слоя. Последний включает, мас.ч.: а) пленкообразующий компонент 80 - 120; б) акриловый мономер...

 Изобретение касается полиграфии и радиотехники, в частности способа получения фотополимеризующейся композиции, использующейся для получения рельефных изображений. Цель изобретения - снижение вязкости реакционной среды, повышение светочувствительности фотополимеризующейся композиции и повышение ее гибкости в фотоотвержденном состоянии. Получение композиции ведут реакцией 1-2-основных карбо...