ФОМЕНКОВ Игорь В. (US)

 Изобретение относится к лазерной технике, а именно - к лазерам, используемым для долговременной круглосуточной работы при производстве интегральных микросхем способом литографии. Усовершенствования заключаются в наличии в нем одиночной трубки устройства предварительной ионизации, расположенной на входе. В рабочей среде понижена концентрация фтора. Опорной планке анода придается форма, уме...

Изобретение относится к лазерной технике и может быть использовано в мощных газоразрядных лазерах с устройствами сужения линии излучения на основе дифракционной решетки. Устройство сужения линии излучения содержит дифракционную решетку, задающую рабочую сторону дифракционной решетки, камеру для вмещения, по меньшей мере, упомянутой дифракционной решетки, источник гелия для обеспечения гелиевой про...

Изобретение относится к источникам высокоэнергетического ультрафиолетового и рентгеновского излучения. Источник высокоэнергетичных фотонов содержит пару электродов (8), расположенных в вакуумной камере устройства (2) для создания плазменного пинча. Камера содержит рабочий газ, который содержит благородный буферный газ и активный газ, выбираемый так, чтобы генерировать требующуюся спектральную лини...

Изобретение относится к лазерной технике, к двухкамерным узкополосным газоразрядным лазерам, и может быть использовано в качестве источника света для литографии интегральных схем. Предусмотрено две отдельные газоразрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора, генерирующего очень узкополосный затравочный пучок, который усиливается во второй разрядной камере. Камерами можно у...

Изобретение относится к электрогазоразрядным лазерам, в частности к узкополосным газоразрядным лазерам с высокой частотой следования импульсов. Конструкция имеет две отдельные разрядные камеры, одна из которых является частью задающего генератора, создающего узкополосный затравочный луч, усиление которого осуществляют во второй разрядной камере. Управление рабочими камерами может быть осуществлено...