БАЗАНОВА И.Ю.

  Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано на фотолитографических операциях . Цель изобретения - улучшение равномерности покрытия. Фоторезист. (Ф) наносится и сушится на кремниевых подложках (П) методом центрифугирования. HoBbw в способе является то, что нанесение Ф проводят при переменной скорости вращения П, а сушку Ф провидят при скорости вращен...