ШМИДТ ФРАНК

  Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении шаблонов для полупроводниковы. приборов и интегральных схем высокой степени интеграции. Цель - повышение про изводительности процесса изготовления свободной маски для электроннои ионно-лучевых систем. Цель изобретения достигается тем, что формирование рисунка с...