Рябинкина Л.М.

 Изобретение относится к области микроэлектроники. Цель изобретения - повышение процента выхода годных. На подложку из стали наносят структуру V-Cu-V-Al, а затем методом селективной фотолитографии формируют проводники 1-го слоя с использованием позитивного фоторезиста. С помощью негативного фоторезиста формируют защитную маску с окнами для переходных контактных столбиков. Переходные окна к...