ЛИПИАН Джон-Генри (US)

 Изобретение относится к полициклическому полимеру, используемому в качестве фоторезиста при изготовлении интегральных плат. Описывается способ получения полициклического полимера и способ присоединения лиганда-акцептора электронов к концевому участку полициклического полимера полимеризацией мономерной композиции, содержащей кислотный фотоинициатор и полициклический полимер, содержащий пов...