Курмачев В.А.

 Изобретение относится к технологии микроэлектроники. Цель изобретения - повышение выхода годных фотошаблонов за счет улучшения адгезии электронорезистора (ЭР) на основе полиметилметакрилата к металлическому маскирующему покрытию (МП). На стеклянную или кварцевую подложку наносят слой МП (например, хрома) и слой ЭР. ЭР экспонируют электронным лучом, проявляют и задубливают в термостате. За...