Мякиненков В.И.

 Изобретение относится к технологии микроэлектроники. Цель изобретения - повышение выхода годных фотошаблонов за счет улучшения адгезии электронорезистора (ЭР) на основе полиметилметакрилата к металлическому маскирующему покрытию (МП). На стеклянную или кварцевую подложку наносят слой МП (например, хрома) и слой ЭР. ЭР экспонируют электронным лучом, проявляют и задубливают в термостате. За...

 Использование: микроэлектроника, технология изготовления полупроводниковых структур для снижения механических напряжений в структурах. Сущность изобретения: способ изготовления кремниевых полупроводниковых структур включает формирование на поверхности по крайней мере одной из двух кремниевых пластин слоя тугоплавкого металла, а на поверхности другой пластины слоя полупроводникового матери...