Николенков В.Т.

 Изобретение относится к технологии микроэлектроники. Цель изобретения - повышение выхода годных фотошаблонов за счет улучшения адгезии электронорезистора (ЭР) на основе полиметилметакрилата к металлическому маскирующему покрытию (МП). На стеклянную или кварцевую подложку наносят слой МП (например, хрома) и слой ЭР. ЭР экспонируют электронным лучом, проявляют и задубливают в термостате. За...

 Изобретение относится к технологии микроэлектроники. Цель изобретения - повышение точности совмещения. Метка выполнена в виде углубления в подложке, которое имеет плоское дно. На дне углубления расположены выступы. Поперечное сечение каждого выступа имеет треугольную форму. Такая форма в меньшей степени подвержена сглаживанию при нанесении на подложку технологических слоев. Кроме того при...

 Изобретение относится к технологии микроэлектроники. Цель изобретения - улучшение свойств шаблонов. На заготовке шаблона (ЗШ) формируют резистивную маску. Через нее осуществляют реактивное ионнолучевое травление (РИЛТ) пленки хрома в среде галагенсодержащего газа 80 - 90% ее исходной толщины. Затем осуществляют ионно-лучевое травление в инертном газе для удаления нелетучих фторхлористых с...