ЛИ ОК ХА
Изобретатель ЛИ ОК ХА является автором следующих патентов:
Грунтовая эмаль
Изобретение относится к составам грунтовых эмалей и может быть использовано на машиностроительных и приборостроительных заводах для эмалирования стальных изделий электробытовой и газовой аппаратуры. С целью получения качественного покрытия на нетравленной стальной поверхности грунтовая эмаль содержит, мас.%: SIO<SB POS="POST">2</SB> 32,0-40,0 B<SB POS="POST">2<...
1504231