Вильдгрубе В.Г.

 Изобретение относится к области вакуумно - плазменной технологии нанесения покрытий и может найти применение в машиностроении. Целью изобретения является повышение производительности устройства и равномерности покрытий по внутренней поверхности длинномерных цилиндрических изделий. Устройство содержит соосно размещенные анод в виде трубы, ускоряющую катушку 3 и расходуемый катод 4. Соосно...

 Изобретение относится к области вакуумно - плазменной технологии и может найти применение в электронной промышленности. Целью изобретения является повышение качества покрытий путем повышения равномерности по толщине. Способ состоит в том, что в процессе осаждения плазменного потока изменяют напряженность встречного магнитного поля, что обеспечивает сканирование потока заряженных частиц до...

 Изобретение относится к вакуумной технологии нанесения титановых покрытий. Цель изобретения - повышение сорбционных свойств покрытия. Для этого подложку 1 помещают в диапазоне телесных углов от 10 до 30o относительно точки пересечения поверхности катода 2 и его продольной оси. 1 ил. Изобретение относится к вакуумной технологии нанесения покрытий, а конкретно к технологии вакуумно-дугового...