Мкртчан М.Л.
Изобретатель Мкртчан М.Л. является автором следующих патентов:
![Способ обработки поверхности полупроводниковых структур арсенида галлия Способ обработки поверхности полупроводниковых структур арсенида галлия](/img/empty.gif)
Способ обработки поверхности полупроводниковых структур арсенида галлия
Изобретение относится к полупроводниковой технике, и может быть использовано в технологии получения полупроводниковых структур на основе арсенида галлия. Цель изобретения - улучшение качества полупроводниковых структур арсенида галлия за счет снижения уровня загрязнения поверхности углеродом и сохранения геометрических размеров структур. В данном способе пластины арсенида галлия обрабатыв...
1542332