Боков Ю.С.

  Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к СВЧ - плазмотронам, предназначенным для плазменной обработки материалов при давлениях ниже атмосферного, и может быть использовано для проведения процессов травления, очистки, осаждения, формирования собственных диэлектриков (анодирования) на полупроводниках и металлах. Целью изобретения является повышение эффективности обра...

 Использование: технология микроэлектроники. Сущность изобретения: подложку (П) помещают в предварительную вакуумную камеру и создают в ней давление 1-10 Па. Затем П перемещают в вакуумную камеру и в едином замкнутом вакуумном технологическом цикле осуществляют напыление на П слоя алюминия, осаждение слоя плазмополимеризованного стирола (ППС) при расходе пара стирола 1,5-3 л/ч, нанесение с...