Сатаров Г.Х.

 Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к устройствам для нанесения резиста в вакууме. Цель изобретения- исключение привносимой дефектности - достигается тем, что устройство снабжено дополнительной камерой 18 со средством возвратно-поступательного перемещения 20 тигля 5 и средствами ввода инертного газа 19 и вакуумной откачки 22, соединенной затвором 21 с реакционной камеро...

 Использование: технология микроэлектроники. Сущность изобретения: подложку (П) помещают в предварительную вакуумную камеру и создают в ней давление 1-10 Па. Затем П перемещают в вакуумную камеру и в едином замкнутом вакуумном технологическом цикле осуществляют напыление на П слоя алюминия, осаждение слоя плазмополимеризованного стирола (ППС) при расходе пара стирола 1,5-3 л/ч, нанесение с...