АНТОЩЕНКО ВЛАДИМИР СТЕПАНОВИЧ

  Изобретение относится к устройствам для получения полупроводниковых структур, в частности для создания сверхрешеток. Обеспечивает повышение однородности поверхностного состава слоев за счет одновременной подачи расплава по всей поверхности подложки Устройство содержит, емкости для расплавов, соединенные с поршневой камерой. Под емкостями размещен подложкодержатель с подложкой. Ме...