Сырчин В.К.

  Изобретение относится к пленочной микроэлектронике, в частности к магнетронным устройствам ионно-плазменного нанесения пленок материалов в производстве тонкопленочных элементов интегральных микросхем. Устройство позволяет повысить эффективность и стабильность работы в процессе нанесения пленки при рабочем давлении 0,05-Па. С этой целью в катоде выполняют полость, в которой устанавливают...