РАРЕНКО АННА ИЛАРИЕВНА

  Изобретение относится к составам для химико-механического полирования (ХМП) полупроводниковых материалов и может быть использовано в полупроводниковой технологии, в частности при подготовке поверхности кристаллов CdSb, используемых для ИК-оптических элементах. Целью изобретения является улучшение качества полируемой поверхности кристаллов CdSb. Композиция для химико-механической...