PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Денисов Г.Г.

Изобретатель Денисов Г.Г. является автором следующих патентов:

Мазер на свободных электронах

Мазер на свободных электронах

 1. Мазер на свободных электронах, содержащий электронную пушку, соосно ей расположенный резонатор и выходной узел, отличающийся тем, что, с целью повышения КПД и уменьшения продольного размера, резонатор расположен между электронной пушкой и выходным узлом, выполнен в виде отрезка конического волновода кругового сечения, большим основанием обращенного к выходному узлу, и имеет пазы, выпол...

995648

Релятивистский свч-прибор

Релятивистский свч-прибор

 1. Релятивистский СВЧ-прибор, содержащий электронную пушку, открытый резонатор, образованный двумя зеркалами, и выходной узел, отличающийся тем, что, с целью повышения мощности, в резонатор соосно электронной пушке введено прозрачное для электромагнитного излучения устройство транспортировки пучка, расположенное между электронной пушкой и выходным узлом, при этом зеркала резонатора распол...

1230293

Устройство для измерения возмущающего момента

Устройство для измерения возмущающего момента

 Изобретение относится к прецизионной измерительной технике. Цель изобретения - повышение точности измерения возмущающих моментов путем определения углового ускорения объекта, возникающего под действием этих моментов. Устройство содержит подвешиваемое в корпусе 1 тело 2 с многогранным зеркалом 4, оптический датчик 5 угла, датчик 7 момента с обмотками, расположенными на корпусе 1, блок 6-вы...

1391278

Высокоскоростной способ осаждения алмазных пленок из газовой фазы в плазме свч-разряда и плазменный реактор для его реализации

Высокоскоростной способ осаждения алмазных пленок из газовой фазы в плазме свч-разряда и плазменный реактор для его реализации

 Изобретение может быть использовано при получении поликристаллических алмазных пленок (пластин) для изготовления выходных окон мощных источников СВЧ-излучения. В реакционной камере активизируют газовую смесь водорода и углеводорода путем повышения концентрации электронов в плазме СВЧ-разряда. Образовавшиеся атомы углеродсодержащих радикалов осаждают на подложку, обеспечивая формирование п...

2215061