ОХИ Тосио (JP)

 Изобретение относится к очистке тетрафторметана, который используют в качестве газа для травления или очищающего газа в производстве полупроводниковых устройств. Способ осуществляют путем взаимодействия тетрафторметана, содержащего в качестве примесей одно или несколько производных этилена, одно или несколько углеводородных соединений, монооксид углерода и/или диоксид углерода, с целитом...

 Изобретение относится к способу получения трифторида азота (NF3), заключающемуся в прямом взаимодействии газообразного фтора (F2) с газообразным аммиаком (NH3) в газовой фазе. Газообразный F2 вводят во взаимодействие с газообразным NH3 в газовой фазе при 80oС или при более низкой температуре в присутствии разбавляющего газа при соотношении молярных концентраций газообразного фтора и газоо...