Хоменко П.Ф.

 Изобретение относится к области ионно-плазменной обработки и может найти применение в микроэлектронике при производстве интегральных схем. Целью изобретения является повышение скорости ионно-плазменной обработки (ИПО) и уменьшение загрязнения обрабатываемого изделия (И) продуктами распыления электродов (Э) разрядной камеры (К). Для достижения поставленной цели вакуумная К выполнена в виде...