СЫЧЕВ П.Е.

  Изобретение относится к источникам плазмы для вакуумно-плазменной технологии и может использовано для нанесения покрытий и обработки поверхностей. Целью изобретения является исключение загрязнения плазмы твердыми и жидкими частицами материала катода. Цель достигается тем,, что в способе получения плазмы металлов с помощью вакуумной дуги постоянного тока, горящей в парах металличе...