Поярков Н.И.

  Изобретение относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов и может быть использовано на завершающей стадии фотолитографии при удалении задубленного слоя фоторезиста с поверхности полупроводниковых пластин и фотошаблонных заготовок. Новый состав содержит метилпирролидон, воду, глицерин и алифатический амин при следующем соотношении компонентов (об.%): метилпирролидон 17 -...