Корнюшина Е.И.

 Использование: в качестве основы для формирования сверхтонких термостабильных поляроидных пленок, селективных в области 620 - 680 нм. Сущность: продукт 3-хлориндантрон-4,4-дисульфокислота формулы (см. рис) C44H35ClN6O10S4 выход 68,8% . Реагент 1: индантрон. Реагент 2: сульфирующий агент - моногидрат, олеум и хлорсульфоновая кислота. Условия: температура 80-90С, перемешивание. 1 ил. , 1 та...