Яфаров Равиль Кяшшафович

 Относится к вакуумно-плазменной обработке слоев и пленок материалов микроэлектроники потоками ионов, атомов и радикалов в плазме инертных или химически активных газов. Установка для микроволновой вакуумно-плазменной обработки конденсированных сред содержит последовательно соединенные микроволновый генератор 1, круглый одномодовый волновод 3, согласованный переход 5, выполненный многоступе...

 Использование: вакуумно-плазменная обработка потоками ионов, атомов и радикалов инертных или химически активных газов слоев и пленочных материалов в микроэлектронике. Техническим результатом изобретения является создание устройства для вакуумно-плазменной обработки пластин большого диаметра, увеличение энерговклада и равномерности плазменного разряда для повышения производительности и одн...