КРЮКОВСКИЙ СТАНИСЛАВ АЛЕКСАНДРОВИЧ

  Область использования: фотолитографические процессы. Сущность изобретения: негативный фоторезист содержит, г: синтетический циклизованный изопреновый каучук 24,9-65,0; 2,6-бис(4 -азидобензаль)-4-метилциклогексанон 1,0-4,5; ксилол 140,0-200,0. Указанный каучук имеет средневесовую ММ 48000-65000, среднечисловую ММ 15000-20000, степень циклизации 100%. Снижается микронеровность форм...