ИНКИН ЮРИЙ НИКОЛАЕВИЧ

  Изобретение относится к сверхпроводящей микроэлектронике. Сущность изобретения: на пластину наносят буферный и сверхпроводящий слой. Для модификации буферного слоя используют высокоэнтальпийную, низкотемпературную плазму, длительность разового воздействия плазмы 0,01-0,1 с плотностью теплового потока на границе плазма - поверхность 106-107 Вт/м2. При использовании в качестве буфе...