Суровцев А.Н.

  Способ термообработки слоя фоторезистора, нанесенного на подложку. Область использования: фотолитография в производстве интегральных схем. Сущность изобретения: нагрев подложки со слоем резиста осуществляют бесконтактным методом. Подложку в камере устанавливают резистом вниз. Под подложкой с резистом создают парогазовую подушку, температура которой на 7 - 13°С ниже температуры нагревател...