Ильичев Э.А.

 1. Способ получения диэлектрических покрытий на подложках арсенида галлия и твердых растворов типа CaAlAs, включающий размещение подложек в реакторе, их нагрев, формирование пассивирующих и диэлектрических слоев, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрофизических свойств границы раздела диэлектрический слой - подложка за счет уменьшения плотности поверхностных состояний, диэлектри...

 Способ получения изолирующих покрытий по авт. св. N 940601,отличающийся тем, что, с целью увеличения времени хранения заряда в диэлектрических слоях при формировании диэлектрических слоев из газовой фазы, в нее дополнительно вводят триметилгаллий при мольном отношении к триметилалюминию (0,3 oC 10) : 1 и моногерман при мольном отношении к триметилгаллию и триметилалюминию (10-4 - 10-6) :...

 1. Элемент памяти, содержащий полупроводниковую подложку из арсенида галлия и активный полупроводниковый слой на ней с контактами стока и истока, а также электрод затвора, отделенный от активного слоя изолирующим слоем с захватом заряда, отличающийся тем, что, с целью повышения быстродействия и уменьшения величин пороговых напряжений записи и стирания, изолирующий слой расположен между ак...

 Оптоэлектронный элемент памяти, выполненный на сильнолегированной подложке арсенида галлия, содержащий излучательный p - n-гетеропереход, образованный гетерослоями Gа1-yAlyAs и Gа1-2Al2As, последний из которых граничит с подложкой и имеет с ней один тип проводимости при y>2, активный транзисторный слой с контактами истока и стока и электродом затвора, отделенный от указанных гетерослое...

 Изобретение относится к технологии полупроводниковых приборов и может быть использовано при производстве как отдельных полупроводниковых приборов, так и монолитных интегральных схем на основе полупроводниковых соединений А3 В5. Целью изобретения является улучшение выходных параметров и повышение процента выхода годных приборов путем исключения двухуровневой разводки. Это достигается тем,...

 Изобретение относится к оптоэлектронике и может использоваться в системах оптической обработки информации и в ВОЛС. Цель изобретения - уменьшение управляющей мощности, управление диаграммой направленности и повышение граничной частоты модуляции. Лазер содержит подложку, например p+-GaAs, слой p - Ga1-хAlхAs, слой p-GaAs, слой n - Ga1-уAl4As, первый дополнительный полупроводниковый слой пG...

 Изобретение относится к физическим методам исследования и может быть использовано для определения параметров ловушек в полупроводниковых материалах. Цель изобретения - повышение точности определения параметров. Согласно изобретению, измерение проводят при двух значениях температуры образца. На него подают пары импульсов напряжений, заряжающих ловушки. Длительность импульсов одинакова и пр...

 Изобретение относится к оптоэлектронике и может быть использовано в передающих модулях . Цель изобретения - обеспечение работы лазера в непрерывном режиме путем улучшения теплоотвода. Лазер содержит подложку n+= СаАs, по одну сторону которой расположены слои, образующие двойную гетероструктуру, и слой СaАs с омическим контактом. По другую сторону подложки размещен слой р-GаАs с контактами...

 Изобретение относится к области оптоэлектроники и может быть использовано в качестве передающего модуля в системах ВОЛС, а также в качестве базовой излучающей ячейки в оптоэлектронных ИС. Изобретение обеспечивает улучшение теплоотвода лазера и повышение степени интеграции схем на этих лазерах. Лазер содержит полуизолирующую подложку 1 арсенида галлия, по одну сторону которой расположены с...

 Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при обработке малых управляющих электрических сигналов в качестве усилительного или ключевого элемента. Цель изобретения - упрощение конструкции квантового интерференционного полевого транзистора. Транзистор выполнен на многослойной эпитаксиальной структуре n-GаАs-GаАlАs-nGаАs, расположенной на подложке из арсенида галлия,...

 Изобретение относится к полупроводниковой электронике и может быть использовано при формировании СБИС ЗУ на арсениде галлия. Цель изобретения - повышение выхода годных путем увеличения точности задания пороговых напряжений транзисторов посредством влияния на степень нестехиометрии поверхностного слоя aрсенида галлия. Осуществляют формирование канавок для подзатворных областей нормально за...

 Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении полевых транзисторов, работающих на частотах в несколько десятков гигагерц. Целью изобретения является повышение воспроизводимости величины зазоров между активными областями. Цель достигается тем, что в качестве подножки берут арсенид галлия, а затвор выполняют из ниобия либо нитрида ниобия. Формируют маск...

 Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов, в частности МДП - транзисторов на подложке арсенида галлия. Целью является повышение крутизны транзисторов. Цель достигается тем, что на подложку арсенида галлия, содержащую области стока и истока, осаждают диэлектрик методом пиролиза. В качестве газовой смеси используют диэт...

 Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении полевых транзисторов. Целью изобретения является повышение однородности сопротивления областей истоков и стоков на границе с подложкой. Формирование защитного покрытия на подложке осуществляют посредством низкотемпературного окисления. Однородность толщины покрытия обеспечивается насыщающим характером врем...

 Изобретение может быть использовано в системах связи, в запоминающих системах в качестве ключевого или усилительного элемента. Цель изобретения - уменьшение рассеиваемой мощности и уменьшение разброса параметров инверторов по площади кристалла. Инвертор состоит из полуизолирующей подложки 1 арсенида галлия, первого нелегированного слоя 2 арсенида галлия, толщиной 2000 , с фоновой концентр...

 Изобретение относится к области контроля параметров полупроводниковых структур после технологических операций. Полупроводник облучают зондируюшим электромагнитным излучением, длина волны которого больше толщины исследуемого слоя полупроводника, измеряют интенсивность интерференционных максимумов I или II порядков отраженного или прошедшего сигнала, одновременно с облучением исследуемую по...

 Применение: относится к микроэлектронике и может быть использовано для изготовления полевых транзисторов Шоттки. Сущность: полевой транзистор Шоттки, у которого исток, сток и электрод затвора выполнены на -легированной структуре, включающей полуизолированную подложку из арсенида галлия и d-легированный слой n - типа проводимости, отделенный от подложки и свободной поверхности слоями арсен...

 Применение: изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении ИС на арсениде галлия. Сущность: структура включает субмикронный буферный слой, расположенный между подложкой и субмикронным слоем арсенида галлия n - типа проводимости. Буферный слой выполнен в виде последовательности чередующихся слоев арсенида галлия одного типа проводимости и -легированного...

 Использование: изобретение относится к измерительной технике. Сущность изобретения: предложен способ определения электрофизических параметров полупроводниковых и полуизолирующих материалов, основанный на локальных неразрушающих измерениях релаксационных процессов электронно-дырочной и ловушечной систем в образце в условиях периодического возбуждения их светом и квазиравновесного нагревани...

 Изобретение относится к электронной оптике и может быть использовано в электронно-оптических преобразователях (ЭОП). Изобретение представляет усилитель электронного потока, выполненный в виде твердотельной пластины, на одну из сторон которой падает входной поток электронов, а с противоположной стороны происходит эмиссия вторичных, электронов, отличающийся от аналогов тем, что с целью увел...

 Изобретение относится к вакуумной электронике и может быть использовано в электронно-оптических преобразователях (ЭОП). Техническим результатом является повышение коэффициента усиления ЭОП. Изобретение представляет усилитель электронного потока, выполненный в виде пленки из широкозонного полупроводника с отрицательной или небольшой работой выхода для электронов. Для увеличения коэффициент...