ЛАНДАУ Игорь (US)

Изобретение относится к способу и устройству, полезным при нанесении нанорисунка на подложки большой площади. Техника нанесения нанорисунка использует ближнеполевую фотолитографию, которая предусматривает подложку со слоем, чувствительным к излучению, вращаемую маску, имеющую нанорисунок на внешней поверхности, соприкосновение упомянутого нанорисунка с упомянутым слоем, чувствительным к излучени...