Кривцун Владимир Михайлович (RU)

Изобретение относится к насосам для перекачки расплавленных металлов и горячих сред, в частности для формирования струй жидкого металла, служащих в качестве жидкометаллического электрода в мощных источниках рентгеновского или экстремального ультрафиолетового излучения. Насос содержит моторную камеру, в которой размещена часть ведущего металлического вала и совмещенная с ведущим валом ведущая пол...

Изобретение относится к магнитным муфтам и может использоваться в герметичных насосах, компрессорах и системах передачи движения. Технический результат заключается в создании жаропрочной магнитной муфты, предназначенной для передачи движения в горячих средах, в частности в расплавленных металлах с температурой выше 300°C. Жаропрочная магнитная муфта содержит горячую камеру, моторную камеру и гер...

Группа изобретений относится к устройству и способу для генерации мощного оптического излучения, в частности, в области экстремального УФ (ЭУФ) или мягкого рентгеновского излучения в диапазоне длин волн примерно от 1 нм до 30 нм. Область применения включает ЭУФ - литографию при производстве интегральных схем или метрологию. Технический результат-повышение мощности пучка оптического излучения. В...

Изобретение относится к области источников света с лазерной накачкой. Технический результат - расширение функциональных возможностей источника света с лазерной накачкой за счет повышения его пространственной и энергетической стабильности, увеличения яркости, повышения надежности работы в долговременном режиме при обеспечении компактности устройства. Сфокусированный лазерный пучок (7) направлен в...

Заявленное изобретение относится к устройству источников света с лазерной накачкой. Заявленное устройство включает камеру (1), содержащую газ, лазер (2), оптический элемент (4), область излучающей плазмы (6), блокатор (8) и оптическую систему сбора излучения плазмы (14). Числовая апертура сфокусированного лазерного пучка и мощность лазера выбраны таким образом, чтобы область излучающей плазмы бы...

Изобретение обеспечивает создание коммерчески доступного источника ЭУФ излучения для ЭУФ метрологии и актинической инспекции литографических ЭУФ масок. Реализуется за счет использования лазерной мишени в виде непрерывной струи жидкого лития (1), циркулирующего через зону взаимодействия по замкнутому контуру (9) посредством высокотемпературного насоса (11). Коллекторное зеркало (7) размещено снаруж...

Изобретение относится к оптической технике. Широкополосный отражательный фильтр с отсечкой коротковолнового излучения содержит систему из четырех зеркал, выполненных с возможностью перемещения, изменяющего угол скольжения θ, под которым освещается каждое зеркало. Направление распространения и пространственное положение пучка излучения на выходе отражательного фильтра после последовательного отраже...

Изобретение относится к области аналитического приборостроения и касается компактного широкодиапазонного спектрометра вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) и мягкого рентгеновского (MP) диапазона. Спектрометр скользящего падения состоит из корпуса с входной щелью, дифракционной решетки и детектора. Дифракционная решетка с постоянным периодом d имеет плоские отражающие рабочие грани, лежащие в плоскос...