СИМОМУРА Масако (JP)
Изобретатель СИМОМУРА Масако (JP) является автором следующих патентов:
Негативная фоточувствительная полимерная композиция, способ формирования паттерна и головка для выбрасывания жидкости
Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция включает катионно-полимеризуемое соединение, фотогенератор кислоты, имеющую анионную часть и катионную часть,...
2495468Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости
Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, пригодной для получения различных микроустройств для микроэлектромеханических систем и других систем, а также к способу получения структуры и к головке для подачи жидкости. Полимерная композиция содержит следующие компоненты: (a) эпоксидную смолу, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; (b) агент,...
2526258Светочувствительная негативная полимерная композиция
Изобретение относится к светочувствительным негативным полимерным композициям, подходящим для образования тонкой структуры фотолитографическим способом. Предложена светочувствительная негативная полимерная композиция, содержащая (a) содержащее эпоксидные группы соединение, (b) первую ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, пре...
2533490