ШИШ Давид (FR)
Изобретатель ШИШ Давид (FR) является автором следующих патентов:

Способ удаления серо-, азот- и галогенсодержащих примесей, присутствующих в синтез-газе
Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Способ удаления серо-, азот- и галогенсодержащих примесей, присутствующих в синтез-газе, таких как H2S, COS, CS2, HCN, NH3, HF, HCl, HBr и HI, содержит: а) этап совместного гидролиза COS и HCN и улавливания галогенированных соединений с использованием катализатора на основе TiO2, содержащего от 10 вес.% до 100 вес.% TiO2 и от 1 вес...
2497575
Получение твердого материала на основе диоксида цинка, подходящего для очистки газа или жидкости
Изобретение относится к способу получения твердого материала, содержащего ZnO и связующее, включающему следующие этапы: предварительное смешение порошков, содержащих по меньшей мере один порошок ZnO, по меньшей мере одно связующее (этап а), размешивание полученной пасты (этап b), экструзия (этап с) пасты, полученной на этапе b, сушка экструдатов, прокаливание (этап d) в потоке газа, содержащего...
2526987