Ванин А.А.

  Изобретение относится к пленочной микроэлектронике, в частности к магнетронным устройствам ионно-плазменного нанесения пленок материалов в производстве тонкопленочных элементов интегральных микросхем. Устройство позволяет повысить эффективность и стабильность работы в процессе нанесения пленки при рабочем давлении 0,05-Па. С этой целью в катоде выполняют полость, в которой устанавливают...

  Использование: МГД-генераторы открытого цикла, газовые разрядники, переключатели и коммутаторы электрической энергии. Сущность изобретения: способ включает создание плазмы между электродами, формирование токовой неоднородности. К электродам приложена разность потенциалов Uпр/2 < U < Uпр, где Uпр напряжение пробоя газа, в котором создается плазма. В область создания токовой неодноро...

 Использование: для обработки подложек большой площади потоком ЭЦР-плазмы с целью осаждения тонких пленок, модификации поверхности, очистки или травления. Сущность изобретения: источник плазмы ЭЦР-разряда представляет собой расположенные вдоль стенки вакуумной камеры и параллельно друг другу СВЧ-антенны в виде стержней, которые с одного конца соединены через герметичные СВЧ-вводы с источни...

 Изобретение относится к автомобильной промышленности. Устройство ступичного узла содержит вал привода, корпус поворотного кулака, конусную втулку, ступицу, гайку крепления ступицы, подшипники качения. Подшипники установлены шариковые радиально-упорные с распределением посадок в соединениях по кольцам, начиная от наружного торца ступицы, причем внутреннее кольцо первого от наружного торца...