КАТО Хидеказу (JP)
Изобретатель КАТО Хидеказу (JP) является автором следующих патентов:
Галлий высокой чистоты для производства сложных полупроводников, способ очистки и устройство для осуществления этого способа
Изобретение может быть использовано в полупроводниковой промышленности. Сущность изобретения: способ очистки галлия включает отделение примесей от сырья галлия, содержащего примеси, путем постепенной кристаллизации неочищенного галлия, помещенного в жидком виде внутрь емкости, при перемешивании так, что диаметр трубообразной границы кристаллизации постепенно продвигается от внутренней сте...
2227182Многослойная покровная пленка и покрытое изделие
Изобретение относится к многослойной покровной пленке, включающей нижнее покрытие, содержащее красящий материал, верхнее покрытие, нанесенное на нижнее покрытие, и защитное покрытие, нанесенное на верхнее покрытие, а также к покрытому изделию, содержащему вышеуказанную многослойную покровную плёнку. При этом показатель преломления пленочного компонента верхнего покрытия является более низким, чем...
2664066Многослойная покровная пленка и покрытое изделие
Изобретение относится к многослойной покровной пленке, включающей нижнее покрытие, содержащее первый красящий материал и блестящий материал, а также верхнее покрытие, нанесенное на нижнее покрытие и содержащее второй красящий материал, а также к покрытому изделию, содержащему данную многослойную покровную плёнку. Верхнее покрытие и нижнее покрытие имеют аналогичные цвета, а показатель преломления...
2664067