ОХГАМИ Такаси (JP)
Изобретатель ОХГАМИ Такаси (JP) является автором следующих патентов:
Галлий высокой чистоты для производства сложных полупроводников, способ очистки и устройство для осуществления этого способа
Изобретение может быть использовано в полупроводниковой промышленности. Сущность изобретения: способ очистки галлия включает отделение примесей от сырья галлия, содержащего примеси, путем постепенной кристаллизации неочищенного галлия, помещенного в жидком виде внутрь емкости, при перемешивании так, что диаметр трубообразной границы кристаллизации постепенно продвигается от внутренней сте...
2227182