Чернявский А.В. (RU)

 Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники и может быть использовано для определения распределения компонент тонкой пленки по глубине при изготовлении многослойных тонкопленочных структур и полупроводниковых приборов. Сущность изобретения состоит в том, что на две идентичных по свойствам подложки наносят тонкую пленку в виде круглого пятна. Одну из подложек использую...

 Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для определения распределения химических элементов по глубине при изготовлении многослойных тонкопленочных структур и полупроводниковых приборов. Способ послойного анализа тонких пленок заключается в нанесении тонкой пленки на подложку, размещении сверху металлической диафрагмы с отверстием, травлении подло...