ЭИТЗМАН Филип Д. (US)

Предлагается плоская в сложенном состоянии лицевая респираторная маска, которая включает основу маски и крепление. Основа маски включает фильтрующую структуру, которая содержит два покровных полотна и фильтрующий слой, содержащий электрически заряженные микроволокна. Фильтрующая структура заложена сама на себя в виде складки в носовой области основы маски так, чтобы она имела ширину по меньшей м...